技術(shù)突破!中國(guó)電科成功制備4英寸氧化鎵單晶


來(lái)源:中國(guó)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)信息網(wǎng)   時(shí)間:2019-03-04





  近日,中國(guó)電科46所經(jīng)過(guò)多年氧化鎵晶體生長(zhǎng)技術(shù)探索,通過(guò)改進(jìn)熱場(chǎng)結(jié)構(gòu)、優(yōu)化生長(zhǎng)氣氛和晶體生長(zhǎng)工藝,有效解決了晶體生長(zhǎng)過(guò)程中原料分解、多晶形成、晶體開(kāi)裂等問(wèn)題,采用導(dǎo)模法成功制備出高質(zhì)量的4英寸氧化鎵單晶。


  氧化鎵是一種新型超寬禁帶半導(dǎo)體材料,適用于制造高電流密度的功率器件、紫外探測(cè)器、發(fā)光二極管等。但由于氧化鎵屬于單斜晶系,具有高熔點(diǎn)、高溫分解以及易開(kāi)裂的特性,因此,大尺寸氧化鎵單晶制備極為困難。中國(guó)電科46所制備的氧化鎵單晶的寬度接近100mm,總長(zhǎng)度達(dá)到250mm,可加工出4英寸晶圓、3英寸晶圓和2英寸晶圓。經(jīng)測(cè)試,晶體具有很好的結(jié)晶質(zhì)量,將為國(guó)內(nèi)相關(guān)器件的研制提供有力支撐。


  轉(zhuǎn)自:國(guó)資委網(wǎng)站

 


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