中國研發(fā)首個(gè)半浮柵晶體管 芯片器件核心技術(shù)獲突破


作者:鄒瑞玥    時(shí)間:2013-08-13





  中新社上海8月12日電最新一期《科學(xué)》Science雜志刊登了由復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院教授張衛(wèi)領(lǐng)銜團(tuán)隊(duì)研發(fā)的世界第一個(gè)半浮柵晶體管SFGT研究論文,這是中國科學(xué)家首次在該權(quán)威雜志發(fā)表微電子器件領(lǐng)域的研究成果。

  相關(guān)專家認(rèn)為,該成果的研制將有助于中國掌握集成電路的核心技術(shù),從而在國際芯片設(shè)計(jì)與制造領(lǐng)域內(nèi)逐漸獲得更多的話語權(quán)。

  MOSFET金屬—氧化物—半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管是現(xiàn)在集成電路的核心器件。在過去的幾十年里,各國科學(xué)家努力將更多的MOSFET集成到一塊芯片上來提高運(yùn)算能力,鉆研如何實(shí)現(xiàn)更小尺寸的元器件。張衛(wèi)表示,隨著器件尺寸越來越接近其物理極限,基于新結(jié)構(gòu)和新原理的晶體管成為當(dāng)前業(yè)界急需。

  半浮柵晶體管是一種新型基礎(chǔ)器件,它是將隧穿場效應(yīng)晶體管TEET和MOSFET相結(jié)合構(gòu)建而成。論文第一作者王鵬飛解釋說,“隧穿”是量子世界的常見現(xiàn)象,可以“魔術(shù)般”地通過固體,好像擁有了穿墻術(shù)。“隧穿”勢壘越低,相當(dāng)于“墻”就越薄,器件隧穿所需電壓也就越低。把TFET和浮柵晶體管相結(jié)合,半浮柵晶體管SFGT的“數(shù)據(jù)”擦寫更加容易、迅速。

  據(jù)了解,這種新結(jié)構(gòu)晶體管的應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛,包括計(jì)算機(jī)存儲,圖像傳感器等。它可使計(jì)算機(jī)存儲器成本大幅降低,集成度更高,讀寫速度更快;使圖像傳感器感光單元密度更高,分辨率和靈敏度得到提升。

  張衛(wèi)表示,半浮柵晶體管SFGT并不需要對現(xiàn)有集成電路制造工藝進(jìn)行很大的改動,為盡快實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,目前針對這個(gè)器件的優(yōu)化和電路設(shè)計(jì)工作已經(jīng)開始。(鄒瑞玥)

來源:中國新聞網(wǎng)


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